为在像素微缩的同时提升光吸收率,三星图像传感器从前照式(FSI)进化至将光电二极管更贴近微透镜的背照式(BSI)。随后诞生的ISOCELL技术通过在像素间构筑物理屏障实现隔离,其核心突破在于从前代背照式深沟隔离(BDTI)向正照式深沟隔离(FDTI)的跃迁。
为在像素微缩的同时提升光吸收率,三星图像传感器从前照式(FSI)进化至将光电二极管更贴近微透镜的背照式(BSI)。随后诞生的ISOCELL技术通过在像素间构筑物理屏障实现隔离,其核心突破在于从前代背照式深沟隔离(BDTI)向正照式深沟隔离(FDTI)的跃迁。
为在像素微缩的同时提升光吸收率,三星图像传感器从前照式(FSI)进化至将光电二极管更贴近微透镜的背照式(BSI)。随后诞生的ISOCELL技术通过在像素间构筑物理屏障实现隔离,其核心突破在于从前代背照式深沟隔离(BDTI)向正照式深沟隔离(FDTI)的跃迁。
三星通过优化像素架构持续革新隔离技术。早期采用覆盖光电二极管上方的金属网格虽减少像素串扰,却易导致光损。ISOCELL以新型材料替代金属屏障,在抑制光损与反射的同时提升感光度,并引入更纤薄却更强劲的滤色器以增强超小微距像素的色彩还原力,最终带来色彩保真度更高、动态范围更广的惊艳成像体验。
三星通过优化像素架构持续革新隔离技术。早期采用覆盖光电二极管上方的金属网格虽减少像素串扰,却易导致光损。ISOCELL以新型材料替代金属屏障,在抑制光损与反射的同时提升感光度,并引入更纤薄却更强劲的滤色器以增强超小微距像素的色彩还原力,最终带来色彩保真度更高、动态范围更广的惊艳成像体验。
三星通过优化像素架构持续革新隔离技术。早期采用覆盖光电二极管上方的金属网格虽减少像素串扰,却易导致光损。ISOCELL以新型材料替代金属屏障,在抑制光损与反射的同时提升感光度,并引入更纤薄却更强劲的滤色器以增强超小微距像素的色彩还原力,最终带来色彩保真度更高、动态范围更广的惊艳成像体验。
三星ISOCELL技术将FDTI引入双像素架构,重新定义成像清晰度。FDTI通过在像素间构筑物理屏障实现完全隔离,有效抑制光学串扰。光线更难溢入相邻像素,使图像锐利度、色彩精度与细节层次显著提升。
FDTI同时提高像素全阱容量(FWC,即单像素可吸收的光电子数量),带来更宽广的动态范围以优化成像质量与色彩还原。三星ISOCELL让精准光捕捉成为现实。
三星ISOCELL技术将FDTI引入双像素架构,重新定义成像清晰度。FDTI通过在像素间构筑物理屏障实现完全隔离,有效抑制光学串扰。光线更难溢入相邻像素,使图像锐利度、色彩精度与细节层次显著提升。
FDTI同时提高像素全阱容量(FWC,即单像素可吸收的光电子数量),带来更宽广的动态范围以优化成像质量与色彩还原。三星ISOCELL让精准光捕捉成为现实。
三星ISOCELL技术将FDTI引入双像素架构,重新定义成像清晰度。FDTI通过在像素间构筑物理屏障实现完全隔离,有效抑制光学串扰。光线更难溢入相邻像素,使图像锐利度、色彩精度与细节层次显著提升。
FDTI同时提高像素全阱容量(FWC,即单像素可吸收的光电子数量),带来更宽广的动态范围以优化成像质量与色彩还原。三星ISOCELL让精准光捕捉成为现实。
FDTI虽能捕获更多光线,但因需缩减光电二极管面积,需开发新结构应对。解决方案是将水平传输门结构转为垂直布局,使光电二极管深植于像素内部。此举令单像素捕获更多光电子,直接提升画质与性能。
ISOCELL图像传感器采用双垂直传输门技术(D-VTG),每光电二极管配备两枚传输门,提升电子转移效率与全阱容量,即使像素微缩仍可输出细节丰富、色彩生动的图像。
FDTI虽能捕获更多光线,但因需缩减光电二极管面积,需开发新结构应对。解决方案是将水平传输门结构转为垂直布局,使光电二极管深植于像素内部。此举令单像素捕获更多光电子,直接提升画质与性能。
ISOCELL图像传感器采用双垂直传输门技术(D-VTG),每光电二极管配备两枚传输门,提升电子转移效率与全阱容量,即使像素微缩仍可输出细节丰富、色彩生动的图像。
FDTI虽能捕获更多光线,但因需缩减光电二极管面积,需开发新结构应对。解决方案是将水平传输门结构转为垂直布局,使光电二极管深植于像素内部。此举令单像素捕获更多光电子,直接提升画质与性能。
ISOCELL图像传感器采用双垂直传输门技术(D-VTG),每光电二极管配备两枚传输门,提升电子转移效率与全阱容量,即使像素微缩仍可输出细节丰富、色彩生动的图像。
高精度微透镜 (High-P) 采用高折射率材料强化聚光能力,将外部光线精准聚焦于光电二极管,信噪比提升0.3dB,优化整体画质与真实色彩捕捉。
高精度微透镜 (High-P) 采用高折射率材料强化聚光能力,将外部光线精准聚焦于光电二极管,信噪比提升0.3dB,优化整体画质与真实色彩捕捉。
高精度微透镜 (High-P) 采用高折射率材料强化聚光能力,将外部光线精准聚焦于光电二极管,信噪比提升0.3dB,优化整体画质与真实色彩捕捉。
高透射率抗反层¹ (High-T) 在制造过程中应用新材料构建屏障结构,最大化抵达光电二极管的光量。通过抑制穿过滤色器的光线反射与散射,确保入射光高效转化为光电子。
高透射率抗反层¹ (High-T) 在制造过程中应用新材料构建屏障结构,最大化抵达光电二极管的光量。通过抑制穿过滤色器的光线反射与散射,确保入射光高效转化为光电子。
高透射率抗反层¹ (High-T) 在制造过程中应用新材料构建屏障结构,最大化抵达光电二极管的光量。通过抑制穿过滤色器的光线反射与散射,确保入射光高效转化为光电子。
高灵敏度深沟隔离 (High-S) 在FDTI基础上采用氧化物隔离层替代常规多晶隔离层,减少干扰并将损耗转为有效信号,显著提升光利用率。
高灵敏度深沟隔离 (High-S) 在FDTI基础上采用氧化物隔离层替代常规多晶隔离层,减少干扰并将损耗转为有效信号,显著提升光利用率。
高灵敏度深沟隔离 (High-S) 在FDTI基础上采用氧化物隔离层替代常规多晶隔离层,减少干扰并将损耗转为有效信号,显著提升光利用率。
三星纳米棱镜技术以纳米结构高折射率材料替代传统微透镜,利用光线穿透时的棱镜效应捕获更多光量。图像传感器像素预设RGB滤色器,每像素仅允许对应色光通过至光电二极管。
技术原理:高折射率材料按波长分离入射光,并通过优化光路将各波长导向对应滤色器。相较传统微透镜,聚光效率提升约25%²。
三星纳米棱镜技术以纳米结构高折射率材料替代传统微透镜,利用光线穿透时的棱镜效应捕获更多光量。图像传感器像素预设RGB滤色器,每像素仅允许对应色光通过至光电二极管。
技术原理:高折射率材料按波长分离入射光,并通过优化光路将各波长导向对应滤色器。相较传统微透镜,聚光效率提升约25%²。
三星纳米棱镜技术以纳米结构高折射率材料替代传统微透镜,利用光线穿透时的棱镜效应捕获更多光量。图像传感器像素预设RGB滤色器,每像素仅允许对应色光通过至光电二极管。
技术原理:高折射率材料按波长分离入射光,并通过优化光路将各波长导向对应滤色器。相较传统微透镜,聚光效率提升约25%²。