光刻工艺类似于洗印黑白照片
人们经常将 Photo Lithography(光刻)缩写成 Photo。得此名称的原因是,这个工艺在晶 圆上利用光线来照射带有电路图形的光罩,从而绘制电路。形成图形的方法类似于在洗印黑 白照片时,将在胶片上形成的图像印在相纸上。 随着半导体集成度的提高,构成芯片的单元元 件也要使用微工艺做得更小。由于微电路图形 的实现也全由光刻工艺决定,因此集成度越高, 光刻工艺技术就越需要更精细和更高级的技术。晶圆电路图形制造准备阶段
那么我们开始正式了解一下光刻工艺是如何进 行的吧!首先,使用电脑系统设计(计算机辅助设计, CAD, computer-aided design)将要在晶圆上绘制的电路。依照电路图形(Pattern)所设计的图中包含工程师设计的精密电路,其精密度决定半导体的集成度。制造具有照片底片一样作用的光罩
▲ 光罩(Photo Mask)
设计好的电路图形通过在由高纯度石英加工而 成的基板上形成含铬(Cr)的微电路,从而成 为光罩。光罩也称为掩膜,相当于可以反映电路模图形的胶卷,具有照片底片的功能。为了形成更精细的图形(Patterning),光罩比半导 体电路制作的更大,并且利用透镜减来少光的 照射。 光刻工艺可以细分为涂胶、曝光、显影。氧化膜的形成方法
通过光线在晶圆上绘制电路的曝光
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